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MAS12
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产品描述
参数
1.产品描述
适用于IC封装载板、mSAP量产的数位成像系统,可使 镭射光束在不同种类的感光膜上曝光。采用DMD技术, 可实现12μm的高度解析。
2.产品特点
• 靶点学习功能,适用多种靶点
• 多种涨缩模式(自动、固定、分段、智能、分区域)
• 多种变形模式(线性、非线性)
• 支持拼版,大板模式(选配)
• 智能生产功能(读码、读码和对接工厂MES系统)
• 一站式服务(资讯实时交互、管控和追溯)
• 资料自动化(自动转换资料、制作资料、调取资料)
• 全自动连线生产
3.技术规格
设备型号 | MAS12 | |
支持基板尺寸[inch]
|
28.5”*24.5
|
|
最小解析[μm]
|
12/12
|
|
数据网格精度[μm]
|
0.75
|
|
线宽均匀性[μm]
|
±10%
|
|
对位精度[μm]
|
±8 | |
产能[side/h] | 240 | |
连线产能[pcs/h] | 240 | |
工作环境 |
电源:380V±10%,50/60HZ,5KW
|
|
温度:23±2°C
|
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湿度:55±5%RH
|
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洁净度:1000级
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